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摘要 光源是任何光學系統的重要組成部分，在實際應用中，光源往往具有獨特的光譜分布、空間輻射特性或時間變化規律，通過自定義光源，可直接導入實測數據，確保仿真結果與物理原型高度一致。在本案例中，將演示如何在VirtualLab Unity軟件中導入一個自定義光源，并查看在該光源在經過一個四層AR膜后的膜系的光譜。

在此示例中，我們將使用840 nm中心波長，60 nm FWHM光源，該光源透過以下方式在空氣中提供5μm的軸向分辨率：這些光譜特性來自Superlum市售的超發光二極管，它具有生物成像的共同波長和足夠高的分辨率的帶寬。 我們將忽略準直光學，而是從入射光束進入干涉儀開始。

膜層本身不用光線追跡來處理，而用不同的函數來操作。對於光線追跡，光學相位的超前或延遲都是沿著光線觀察的。Zemax OpticStudio直接追跡光線到基板的位置，忽略中間的膜層及其厚度。膜層被假設鍍在基板表面之前。正確計算光線的相位需要把電場逆向傳播到薄膜起始的位置，並且修正薄膜的相位計算方式為沿著光線方向，而不是表面法向量方向。

光源是任何光學系統的重要組成部分，在實際應用中，光源往往具有獨特的光譜分布、空間輻射特性或時間變化規律，通過自定義光源，可直接導入實測數據，確保仿真結果與物理原型高度一致。在本案例中，將演示如何在VirtualLab Unity軟件中導入一個自定義光源，并查看在該光源在經過一個四層AR膜后的膜系的光譜。

如果厚度從t到t'發生變化，則可以透過修改K∥計算出新的光柵向量，如方程式（4）。圖 4. 當全像材料收縮時，厚度從t 減少到 t'。我們現在已經介紹了體積全像圖模型的基礎知識。要了解有關如何在 OpticStudio 中應用該理論、如何設置序列和非序列系統以及下載範例系統的更多信息，您可以在此處取得本知識庫文章的全部內容。

存在依賴於給定係統對稱性的其他正交解集。1 它們可用於對高階光束模式進行建模。在這篇Blog中，我們描述了 OpticStudio 中可用於表徵高階雷射光束的模型。定義後，此類光束可以在 OpticStudio 中使用物理光學傳播設計的任何光學系統中傳播。

然後根據給定的相位設計微結構。圖1顯示了該過程的流程圖。該圖表未涵蓋設計的詳細訊息，例如，微觀結構可以是傳統的閃耀光柵或現代的超穎透鏡。所需的設計和製造方法可能會有所不同，具體取決於微結構的類型。參考文獻[5]顯示了根據給定的相位輪廓生成閃耀光柵的範例。它還討論了單點金剛石車床的製造。可以在我們的知識庫文章中找到用於生成閃耀光柵的巨集:如何使用巨集計算繞射光學元件的垂度。

為了讓材料屬性可以更針對眼科鏡片的製造，CR-39的資料取塑料的自主要供應商PPG Industries，且可用波長延伸至整個可見光譜範圍。而POLYCARBONATE的資料則由Essilor International S.A. (Gentex Corp.的母公司，主要的PC眼科鏡片製造商)所提供。

從加工車間的 “錐角公差該松該緊”，到采購間的 “哪家參數真能用”，VirtualLab Fusion 和VirtualLab Unity像個 “光學預判官”：不用抱著實物跑實驗室，不用等加工完才發現光束 “歪了”，把軸錐鏡的錐角、材料、面型誤差都揉進仿真里，加工師傅知道 “卡到哪步不返工”，采購知道 “哪家參數沒摻水”，連最終裝到系統里的貝塞爾光束，都和仿真里的光斑幾乎沒差。

我們在一個光學系統中有幾組透鏡元件，它們沿著光軸沿著預定義的軌跡移動，從而提供了光學系統最終焦距（變焦係數）的變化。在 Alvarez變焦鏡頭的情況下，我們有一對所謂的Alvarez鏡頭，這些鏡頭元件相互之間的橫向位移提供了光學系統焦距的變化。傳統變焦鏡頭與 Alvarez變焦鏡頭的主要區別在於，傳統系統鏡頭沿光軸運動，而Alvarez系統鏡頭則沿垂直於光軸的方向運動。

舉例而言，當我們無法得到真實的鍍膜資訊時，OpticStudio中的理想(IDEAL)和表定(TABLE)鍍膜設定就可以派上用場。相似的，Jones Matrix可以在缺乏實際模型的情況下，用來表示偏振元件。當我們面對元件資訊不完整的情形時，Jones Matrix會是模擬偏極化效應(polarization effect)的好幫手。

波前的計算當我們說波前時，事實上通常是指波前 “差”，或是光程差，指的是同一件事。OpticStudio預設使用出瞳作為波前差的計算參考。因此，當我們要計算一條光線的OPD時，此光線會從物面出發後一路追跡穿過光學系統，最終到達像面後，在循原方向後退追跡到 “參考球面”。此參考球面的球心是主光線與像面的交點，半徑是主光線與像面交點到主光線與出瞳面的焦點。

實際的熔化溫度非常困難取得，通常會用噴嘴溫度或最後區域溫度取代。然而，不真實的熔化溫度會誤導進一步的製程，而無法透過射出成型產生高性能產品。然而，ScrewPlus 在射出成型初期階段擷取真實熔化溫度上扮演著重要的角色。尤其是，ScrewPlus 可幫助我們在螺牙剪切後估計真實的熔化溫度，而非只能挑選噴嘴溫度或最後區域溫度。此外，可用於評估熔件的溫度均勻性，這可控制整個射出成型的品質。

這個例子取自：? 構建波導 [用例]? 波導板布局設計工具 [用例] 配置光柵區域的真實光柵結構，這是應用光柵參數連續或平滑變化之前的必要步驟：? 如何設置具有真實光柵結構的波導 [用例]? 使用真實光柵模擬一維-一維光瞳擴展元件 [用例] 光束步跡和光柵分析工具用于指定光柵參數變化的所需范圍，并針對特定條件（波長和方向）預先計算相應的瑞利系數。

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橢圓偏振法是一種光學測量方法，它利用了光在被表面反射（或透過）時發生的偏振變化，例如塊狀材料或薄膜。隨著時間的推移，它在半導體和光學涂層應用中得到了普及，因為與傳統的反射測量相比，它的靈敏度更高。 因此，橢圓偏振法現在被用來準確地表征不同樣品的成分、粗糙度、厚度、結晶特性、導電性和其他材料特性。

連接應用程式和 OpticStudio 有 4 種程式模式，但它們可以分為兩大類： 完全控制（獨立(Standalone)模式和自訂擴展(User Extensions)模式），這種情況下，使用者通常完全控制鏡頭設計和使用者介面。 有限訪問（自訂運算元(User Operands)模式和自訂分析模式），這種情況下，使用者使用現有鏡標頭檔的副本進行處理和分析。

摘要 因為傾斜光柵在特定衍射級中具有高效率，故通常被用于將光耦合到光學光波導中。 如今，它們經常應用于增強和混合現實應用中。 本案將展示如何使用VirtualLab Fusion對文獻中的某些傾斜光柵的幾何形狀，具體參數如傾斜角度，填充因子和調制深度進行分析。

摘要X光成像通常基于Talbot效應和光柵的自成像。 遵循N. Morimoto等人的工作，我們選擇了三種類型的相位光柵，分別是交叉型，棋盤形和網格圖案。 在本案例中，光柵被用于單光柵干涉儀中，建模為僅相位透射函數（因為X射線波長遠小于光柵周期），并在VirtualLab Fusion中我們還檢查了其自成像。